Taas nga borosilicate nga baso(nailhan usab nga gahi nga bildo), gihulagway pinaagi sa paggamit sa bildo sa pagdala sa elektrisidad sa taas nga temperatura. Ang bildo natunaw pinaagi sa pagpainit sa sulod sa bildo ug giproseso sa mga advanced nga proseso sa produksyon.
Ang coefficient sa thermal expansion mao ang (3.3±0.1)x10-6/K, nailhan usab nga "borosilicate glass 3.3". Kini usa ka espesyal nga materyal nga bildo nga adunay ubos nga pagpalapad, taas nga temperatura nga pagsukol, taas nga kusog, taas nga katig-a, taas nga kahayag
transmittance ug taas nga kemikal nga kalig-on. Tungod sa maayo kaayo nga pasundayag, kini kaylap nga gigamit sa solar energy, kemikal nga industriya, pharmaceutical packaging, electric light source, craft jewellery ug uban pang mga industriya.
| Silicon Content | >80% |
| Densidad (20 ℃) | 3.3*10-6/K |
| Coefficient sa Thermal Expansion (20-300 ℃) | 2.23g/cm3 |
| Mainit nga Temperatura sa Trabaho (104dpas) | 1220 ℃ |
| Temperatura sa Pag-ani | 560 ℃ |
| Pagpahumok nga Temperatura | 820 ℃ |
| Repraktibo Index | 1.47 |
| Thermal Conductivity | 1.2Wm-1K-1 |
Oras sa pag-post: Okt-22-2019
