Η επίστρωση ITO αναφέρεται στην επίστρωση οξειδίου του κασσιτέρου ινδίου, η οποία είναι ένα διάλυμα που αποτελείται από ίνδιο, οξυγόνο και κασσίτερο – δηλαδή οξείδιο του ινδίου (In2O3) και οξείδιο του κασσιτέρου (SnO2).
Το οξείδιο του κασσιτέρου του ινδίου, που συνήθως απαντάται σε κορεσμένη με οξυγόνο μορφή που αποτελείται από (κατά βάρος) 74% In, 8% Sn και 18% O2, είναι ένα οπτοηλεκτρονικό υλικό που είναι κιτρινωπό-γκρι σε όγκο και άχρωμο και διαφανές όταν εφαρμόζεται σε λεπτή μεμβράνη στρώματα.
Τώρα μεταξύ των πιο συχνά χρησιμοποιούμενων διαφανών αγώγιμων οξειδίων λόγω της εξαιρετικής οπτικής του διαφάνειας και ηλεκτρικής αγωγιμότητας, το οξείδιο του κασσιτέρου του ινδίου μπορεί να αποτεθεί υπό κενό σε υποστρώματα όπως γυαλί, πολυεστέρας, πολυανθρακικό και ακρυλικό.
Σε μήκη κύματος που κυμαίνονται μεταξύ 525 και 600 nm, 20 ohms/sq. Οι επικαλύψεις ITO σε πολυανθρακικό και γυαλί έχουν αντίστοιχες τυπικές μέγιστες μεταδόσεις φωτός 81% και 87%.
Ταξινόμηση & Εφαρμογή
Γυαλί υψηλής αντίστασης (η τιμή αντίστασης είναι 150~500 ohms) – χρησιμοποιείται γενικά για ηλεκτροστατική προστασία και παραγωγή οθόνης αφής.
Συνηθισμένο γυαλί αντίστασης (η τιμή αντίστασης είναι 60~150 ohms) – χρησιμοποιούνται γενικά για οθόνη υγρών κρυστάλλων TN και ηλεκτρονικά κατά των παρεμβολών.
Γυαλί χαμηλής αντίστασης (αντίσταση μικρότερη από 60 ohms) – χρησιμοποιείται γενικά για οθόνη υγρών κρυστάλλων STN και διαφανή πλακέτα κυκλώματος.
Ώρα δημοσίευσης: Αυγ-09-2019
