Η επικάλυψη ITO αναφέρεται στην επικάλυψη οξειδίου του κασσίτερου ινδίου, η οποία είναι ένα διάλυμα που αποτελείται από ινδικό, οξυγόνο και κασσίτερο - δηλαδή οξείδιο ινδίου (in2O3) και οξείδιο του κασσίτερου (SnO2).
Συνήθως συναντάται σε μορφή κορεσμένου οξυγόνου που αποτελείται από (κατά βάρος) 74%, 8% SN και 18% O2, το οξείδιο του κασσίτερου ινδίου είναι ένα οπτοηλεκτρονικό υλικό που είναι κιτρινωπό-γκρίζο σε μαζική μορφή και άχρωμο και διαφανές όταν εφαρμόζεται σε στρώματα λεπτού φιλμ.
Τώρα μεταξύ των συνηθέστερα χρησιμοποιούμενων διαφανών οξειδίων λόγω της εξαιρετικής οπτικής διαφάνειας και της ηλεκτρικής αγωγιμότητας του, το οξείδιο του κασσίτερου ινδίου μπορεί να είναι κενό σε υποστρώματα, συμπεριλαμβανομένων γυαλιού, πολυεστέρα, πολυανθρακικού και ακρυλικού.
Σε μήκη κύματος που κυμαίνονται μεταξύ 525 και 600 nm, 20 ohms/sq. Οι επικαλύψεις ITO σε πολυανθρακικό και γυαλί έχουν αντίστοιχες τυπικές μεταδόσεις αιχμής φωτισμού 81% και 87%.
Ταξινόμηση & εφαρμογή
Το γυαλί υψηλής αντίστασης (τιμή αντίστασης είναι 150 ~ 500 ohms) - χρησιμοποιείται γενικά για την ηλεκτροστατική προστασία και την παραγωγή οθόνης αφής.
Το συνηθισμένο γυαλί αντίστασης (τιμή αντίστασης είναι 60 ~ 150 ohms)-S που χρησιμοποιούνται γενικά για οθόνη υγρών κρυστάλλων TN και ηλεκτρονική αντι-παρεμβολή.
Το γυαλί χαμηλής αντίστασης (αντίσταση μικρότερη από 60 ohms) - χρησιμοποιείται γενικά για την οθόνη υγρών κρυστάλλων STN και τη διαφανή πλακέτα κυκλώματος.
Χρόνος δημοσίευσης: Αυγ-09-2019
