Acoperire AR, cunoscută și sub denumirea de acoperire cu reflexie redusă, este un proces special de tratare a suprafeței sticlei. Principiul este de a efectua o prelucrare pe o singură față sau pe ambele fețe a suprafeței sticlei pentru a o face să aibă o reflectanță mai mică decât sticla obișnuită și să reducă reflectivitatea luminii la mai puțin de 1%. Efectul de interferență produs de diferite straturi de material optic este utilizat pentru a elimina lumina incidentă și lumina reflectată, îmbunătățind astfel transmitanța.
Sticlă ARutilizat în principal pentru ecrane de protecție pentru dispozitive de afișare, cum ar fi televizoare LCD, televizoare PDP, laptopuri, computere desktop, ecrane de afișare pentru exterior, camere video, geamuri pentru vitrine de bucătărie, panouri de afișare militare și alte tipuri de sticlă funcționale.
Metodele de acoperire utilizate în mod obișnuit sunt împărțite în procese PVD sau CVD.
PVD: Depunerea fizică din vapori (PVD), cunoscută și sub denumirea de tehnologie de depunere fizică din vapori, este o tehnologie de preparare a straturilor subțiri care utilizează metode fizice pentru a precipita și acumula materiale pe suprafața unui obiect în condiții de vid. Această tehnologie de acoperire este împărțită în principal în trei tipuri: acoperire prin pulverizare în vid, placare cu ioni în vid și acoperire prin evaporare în vid. Poate satisface nevoile de acoperire ale substraturilor, inclusiv materiale plastice, sticlă, metale, filme, ceramică etc.
CVD: Evaporarea chimică de vapori (CVD) este numită și depunere chimică de vapori și se referă la reacția în fază gazoasă la temperatură ridicată, descompunerea termică a halogenurilor metalice, metalelor organice, hidrocarburilor etc., reducerea hidrogenului sau metoda de a provoca reacția chimică a gazului amestecat la temperatură ridicată pentru a precipita materiale anorganice, cum ar fi metale, oxizi și carburi. Este utilizată pe scară largă în producerea de straturi de materiale rezistente la căldură, metale de înaltă puritate și pelicule subțiri semiconductoare.
Structura acoperirii:
A. STICLĂ AR cu o singură față (cu strat dublu)\TIO2\SIO2
B. AR față-verso (patru straturi) SIO2\TIO2\STICLĂ\TIO2\SIO2
C. AR multistrat (personalizare conform cerințelor clientului)
D. Transmitanța crește de la aproximativ 88% din sticla obișnuită la peste 95% (până la 99,5%, ceea ce este legat și de grosime și de alegerea materialului).
E. Reflectivitatea este redusă de la 8% din sticla obișnuită la mai puțin de 2% (până la 0,2%), reducând eficient defectul de albire a imaginii din cauza luminii puternice din spate și bucurându-vă de o calitate a imaginii mai clară.
F. Transmitanța spectrului ultraviolet
G. Rezistență excelentă la zgârieturi, duritate >= 7H
H. Rezistență excelentă la mediu, după rezistența la acid, rezistența la alcali, rezistența la solvenți, ciclul de temperatură, temperatura ridicată și alte teste, stratul de acoperire nu prezintă modificări evidente
I. Specificații de procesare: 1200 mm x 1700 mm grosime: 1,1 mm - 12 mm
Transmitanța este îmbunătățită, de obicei în intervalul luminii vizibile. Pe lângă 380-780nm, Saida Glass Company poate personaliza și transmitanță ridicată în domeniul ultraviolet și transmitanță ridicată în domeniul infraroșu pentru a satisface diversele dumneavoastră nevoi. Bine ați venit latrimiteți solicităripentru un răspuns rapid.
Data publicării: 18 iulie 2024
